최첨단 ArF 액침 리소그래피 광원 ‘GT66A’ 본격 가동
최근 디지털 기기나 클라우드 설비가 세계적 규모로 급속하게 증가하면서 이들에 사용되는 반도체 수요도 급격히 늘고 있습니다. 또 기업에서의 DX 확산, 탄소 중립 사회를 목표로 한 EV 증산, 재생 가능 에너지에 대한 시프트 체인지 등 사회 인프라 중추를 반도체가 담당하는 가운데 그 수요는 더욱 빠르게 증가하고 있습니다. 특히 자동 운전 및 하이 퍼포먼스 서버처럼 고속 계산과 저소비 전력을 겸비한 하이엔드 디바이스 수요의 증가는 이 상황에 박차를 가하고 있습니다.
GT66A는 이처럼 하이엔드 디바이스용 반도체에 필요한 5㎚ 노드 및 차세대 노드 제조에도 대응하는 모델입니다. 또 GT66A는 스펙클 콘트라스트를 저감(30%)해 레이아웃과 레지스트 노광의 패턴이 어긋나는 EPE를 저감했습니다. 이를 통해 벽면 미세 패턴의 요철 크기를 나타내는 LER 및 요철로 발생하는 패턴 폭의 편차를 나타내는 LWR을 억제해 일드(yield, 수율) 향상을 기대할 수 있습니다. 이에 더해 고내구성 부품의 도입에 따라 유지 보수 사이클을 30% 연장해 장치의 가동률을 향상, 고도의 생산성 실현도 가능해졌습니다.
기가포톤 대표이사 사장 겸 최고 경영자(CEO) 우라나카 카츠미 씨는 ”GT66A는 최첨단 반도체의 안정적이고 수율이 좋은 생산을 목표로 특히 최첨단 프로세스 노드의 생산성 향상을 위해 시장에 투입됐습니다. 기가포톤은 모든 반도체 공장의 생산성 최대화를 위해 앞으로도 계속 노력하겠습니다”고 말했습니다.
기가포톤 개요
기가포톤은 리소그래피용 DUV 광원의 개발과 제조 선도 기업으로, 설립 초부터 최첨단 기술을 구사한 많은 솔루션을 세계 반도체 제조 업체에 제공하고 있습니다. 또 EUV 광원 개발에도 힘쓰고 있습니다. 기가포톤은 연구 개발부터 제조·판매·보수 서비스까지 풍부한 지식을 가진 전문가 집단으로서 항상 사용자 눈높이에 선 업계 최고 수준의 서포트를 계속 제공해 나가겠습니다. 자세한 내용은 www.gigaphoton.com을 참조해 주십시오.
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