기가포톤, EUV 파일럿 광원으로 집광 미러 반사율 저하량 -0.4 % /Bpls 달성

출처: Gigaphoton Inc.
2017-09-12 10:00
오야마, 일본--(Business Wire/뉴스와이어) 2017년 09월 12일 -- 반도체 리소그래피 광원 주요 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)가 현재 개발중인 EUV 스캐너용 레이저 생성 플라즈마(LPP) 광원에 대해 최첨단 반도체 양산 라인에서의 가동을 상정한 파일럿 광원 주)으로 집광 미러 반사율 저하량 -0.4%/Bpls를 달성함으로써 큰 걸림돌을 해소했다고 발표했다.

기가포톤은 올 여름 자체 개발 기술인 자기장을 이용한 Debris Mitigation(잔해물 제거법) 기술에 있어서 수소개스의 흐름을 최적화 시켜 실물 집광 미러를 탑재한 파일럿 광원으로 수명시험을 실시하여 집광 미러의 반사율 저하량을 -0.4%/Bpls라는 결과를 달성하였다.
이 수치는 미러의 3개월 수명에 상당하며, 4월에 실시한 동일시험(반사율 저하량-10%/Bpls)에 비교하여 큰 폭으로 진전했다고 할 수 있다.

기가포톤 대표이사 부사장 미조구치 하카루는 “최첨단 반도체 양산 라인에서의 가동을 감안 한 파일럿 광원으로 달성한 이번 결과는 큰 기술적인 걸림돌이 해소됨으로써 EUV광원이 시장 도입에 크게 접근했다는 점을 보여준 것이며 당사는 앞으로도 EUV 광원의 개발을 통해서 반도체 산업의 발전에 기여해 나가고자 한다”고 말했다.

*이 뉴스는 9월 11일~14일 캘리포니아주 몬트레이에서 개최되는 SPIE Photomask Technology + with EUV Lithography에서 보고할 예정이다.
 
*이 건은 국립연구개발법인 신에너지·산업기술종합개발기구(NEDO)의 조성 프로그램 성과를 활용하고 있다.

주) 기가포톤이 EUV 리소그래피 양산 공장 대응 사양으로 설계한 광원. 별칭 ‘고출력 실증기’

기가포톤(Gigaphoton) 개요

기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 특허를 취득한 기가포톤의 혁신적인 기술인 LPP EUV 솔루션은 비용대비 효과 및 생산성이 뛰어난 양산용 EUV 스캐너를 만들기 위해 선도적인 역할을 해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(Welcome to Gigaphoton)에서 확인할 수 있다.

비즈니스 와이어(businesswire.com) 원문 보기: http://www.businesswire.com/news/home/20170911005352/en/
언론연락처: 기가포톤주식회사   경영기획부   테라시마 가츠토모   +81-285-37-6931  
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